半導(dǎo)體是現(xiàn)代電子產(chǎn)品的核心，應(yīng)用于從智能手機到汽車等眾多領(lǐng)域。隨著半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，各種器件變得更小、更快、更可靠、更強大。為解決高昂的成本問題，半導(dǎo)體制造過程中的產(chǎn)品良率是半導(dǎo)體廠商最關(guān)注的問題。影響產(chǎn)品良率的因素有很多，污染無疑是其中的重要因素之一。業(yè)內(nèi)人士估計，污染造成約 50% 的產(chǎn)量損失。
從上世紀(jì) 70 年代到今天，芯片制程已經(jīng)從“微米”時代，經(jīng)過“納米”時代，發(fā)展到當(dāng)前的 10 納米以下。隨著元件縮小到單個納米尺度，污染物和雜質(zhì)的控制變得越來越重要，因為即使是超痕量污染物也會降低制造產(chǎn)量，導(dǎo)致產(chǎn)品可靠性下降或產(chǎn)品故障。半導(dǎo)體和電子產(chǎn)品中的雜質(zhì)分析必須貫穿整個制造過程的各個階段，從測試晶片、原材料和工藝化學(xué)品到最終產(chǎn)品的質(zhì)量保證 / 質(zhì)量控制。另外，在半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈的裝置制造、傳感器制造、控制器件制造過程等先進制造環(huán)節(jié)，真空的控制也至關(guān)重要。
自 20 世紀(jì) 80 年代后期以來，安捷倫一直與領(lǐng)先于行業(yè)的半導(dǎo)體制造商和化學(xué)品供應(yīng)商密切合作，開發(fā)適用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的分析和監(jiān)測技術(shù)，應(yīng)對半導(dǎo)體行業(yè)的分析挑戰(zhàn)，并始終處于創(chuàng)新前沿。作為全球半導(dǎo)體領(lǐng)域的先鋒，安捷倫積累了大量創(chuàng)新技術(shù)和卓越的服務(wù)能力。在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的制程監(jiān)測、原材料質(zhì)控、無機雜質(zhì)、納米顆粒、有機雜質(zhì)檢測、符合環(huán)境健康和安全法規(guī)需求以及真空檢漏等方面，都能夠為您提供優(yōu)異的分析儀器、軟件、服務(wù)和支持，助力您取得成功。
半導(dǎo)體行業(yè)元素分析解決方案典型案例
ICP-MS 作為一種金屬元素分析儀器應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈，始于 20 世紀(jì) 80 年代。隨著半導(dǎo)體制程的不斷迭代，整個行業(yè)對 ICP-MS 的性能提出了越來越高的要求。過去 30 年來，位于日本東京的安捷倫 ICP-MS 全球研發(fā)中心與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈端客戶密切合作，引領(lǐng)著 ICP-MS 在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的應(yīng)用不斷創(chuàng)新。
監(jiān)測清洗和蝕刻硅片過程中使用的化學(xué)品中的痕量污染物
監(jiān)測晶圓 /IC 制造過程中使用的化學(xué)品中的污染物
評估硅片襯底及用于硅的相關(guān)層和涂層中的金屬污染
化學(xué)品以及晶圓加工和清潔浴槽中的金屬納米顆粒 (NP) 分析
半導(dǎo)體供應(yīng)鏈中電子化學(xué)品 / 特氣中的金屬污染物
半導(dǎo)體行業(yè)有機分析解決方案
晶圓表面有機污染物分析
高純化學(xué)品及純水中有機雜質(zhì)分析
清洗劑 / 剝離液 / 電鍍液雜質(zhì)分析
化學(xué)品中有機物成分分析 / 配方剖析，如光刻膠、CMP Slurry 配方分析
過濾器等半導(dǎo)體工藝部件的污染物控制
半導(dǎo)體超凈室內(nèi)的揮發(fā)性有機污染物分析
按照法規(guī)要求（例如 RoHS、REACH 等）測定電子電氣中的有害有機物
半導(dǎo)體材料光學(xué)性能分析
CPU、RAM 等終端設(shè)備中鍍膜硅片透射 / 散射 / 反射等光學(xué)性能測試
晶圓涂層表面的光學(xué)性能表征，評估涂層均勻性等性能
借助光學(xué)性能測試結(jié)果，確定并克服涂層工藝中潛在的變異性
使用配備固體自動進樣器的 Agilent Cary 7000 全能型分光光度計 (UMS) 對涂層晶圓的光學(xué)性能進行分析
真空解決方案
服務(wù)于半導(dǎo)體市場以及其上游供應(yīng)商的整個產(chǎn)業(yè)鏈。提供真空泵（油泵、干泵）、檢漏儀、真空計、真空管路配件、閥門等產(chǎn)品，適用范圍包括 ：
半導(dǎo)體制造、封裝設(shè)備、檢測設(shè)備
晶體生長、外延設(shè)備
高純氣體管路檢測及安全性保障
傳感器氣密性檢漏
